Нестационарная модель массопереноса кислородных вакансий и захваченных электронов для определения влияния температуры на электрофизические свойства металлооксидного мемристора

Abstract

Предложена нестационарная одномерная физико-математическая модель массопереноса кислородных вакансий и захваченных электронов при постоянном электрическом поле, которая позволяет точнее определить влияния температуры на электрофизические свойства металлооксидного мемристора по сравнению со стационарной моделью. В отличие от известных моделей, она содержит нестационарные уравнения непрерывности для концентрации захваченных электронов и их плотности тока и соответствующие граничные условия. Разработанная модель позволяет корректно учесть переходные процессы, которые происходят в условиях построения вольт-амперной характеристики мемристора при разных скоростях изменения напряжения во времени. Расчетные значения концентраций вакансий кислорода различаются для нестационарной и известной стационарной модели. В первом случае также наблюдается сильная зависимость профиля концентрации вакансий кислорода от температуры активного слоя мемристора. Существенные отличия распределений концентраций вакансий по толщине пленки наблюдаются при температуре пленки, равной 600 К. Показано, что нестационарная модель точнее воспроизводит экспериментальную вольт-амперную характеристику изготовленного мемристора. Она позволяет оценить время установления стационарного распределения концентрации зарядов и анализировать процесс резистивного переключения при разной скорости изменения напряжения на мемристоре. Представленная модель востребована при численном моделировании процессов обработки сигналов в больших мемристорных массивах, используемых в нейроморфных устройствах.

A non-stationary one-dimensional physico-mathematical model of the mass transfer of oxygen vacancies and trapped electrons under a constant electric field is presented. The model provides a more accurate determination of the temperature effect on the electrophysical properties of a metal oxide memristor in comparison with the stationary model. Unlike the known models, the new one includes non-stationary continuity equations for the concentrations and current density of trapped electrons. The developed model correctly considers transient processes that occur under the conditions of measuring the current-voltage characteristic of the memristor at different voltage sweep rates. The obtained profiles of vacancy concentrations using the developed non-stationary and known stationary models are quantitatively different and have a strong dependence on the temperature of the active layer of the memristor. Significant differences in the distribution of vacancy concentrations across the film thickness are observed at a film temperature of 600 K. The results show that the non-stationary model more accurately reproduces the extoperimental current-voltage characteristic of the manufactured memristor, allowing to estimate the switching time to a stable state and to analyze the process of resistive switching of the memristor at different voltage sweep rates. The developed model is helpful in numerical simulation of signal processing routines in large memristor arrays used in neuromorphic devices.